Záznamové materiály pro reliéfní difrakční struktury

Výhodou reliéfních difrakčních struktur je možnost jejich fungování v oblasti jiných vlnových délek, než jakých bylo použito při jejich záznamu. Reliéfní struktury je možno vytvořit jak optickým záznamem interferenčního pole do vhodného prostředí, tak synteticky (litografie optická, litografie elektronová, rytí a ražba).

Fotorezisty

Fotorezisty jsou polymerní materiály, používané běžně např. v mikroelektronice, u něhož při exponování světlem dochází ke změnám makromolekulárních vazeb uvnitř materiálu. Změnou chemických vazeb se mění též rozpustnost materiálu ve vhodném roztoku, a tedy může vzniknout povrchový reliéf. Lze rozlišit materiály negativní (je rozpouštěna neexponovaná část materiálu, exponovaná je zpevněna) a positivní (je rozpouštěna exponovaná část materiálu) - ty se používají v difraktivní optice výhradně. Fotorezist je nejvýznamnější materiál pro přípravu reliéfních difrakčních struktur. Záznam v optické oblasti je možný pro vlnové délky 300-450 nanometrů. Prostorové rozlišení může dosáhnout až 5000 čar/mm (vysokofrekvenční difrakční struktury).

Termoplastické materiály

Termoplastické materiály jsou reverzibilní (s možností opakovaného procesu). Velkou předností těchto materiálů je vysoká citlivost, nevýhodou je nízké prostorové rozlišení (kolem 500 čar/mm) a omezený rozměr záznamového materiálu. Materiál se využívá pro záznam v holografické interferometrii, kde se oceňuje vyvolávání prakticky v reálném čase. Jelikož materiál bývá zabudován do speciálních snímacích kamer, mohou všechny operace probíhat prakticky automaticky.

Blejzované mikrostruktury

Blejzované reliéfní profily patří mezi nejúčinnější a perspektivní (možnost zhotovení také syntetickou cestou) difrakční struktury. S tím souvisí rozvoj metod počítačem generovaných hologramů (computer generated holograms) a difrakčních optických prvků (diffractive optical elements).

Zpět: Záznamové materiály pro objemové O úroveň výše: Difrakční struktury a optické Pokračovat: Technologie přípravy difrakčních struktur