Elektronová litografie

Podstatou je také bodový zápis difrakční mikrostruktury (pomocí skanovaného elektronového paprsku), podobně jako u optické litografie. Záznam se provádí do fotorezistu, kde vzniká po expozici a chemickém odleptání reliéfní profil. Tímto způsobem vznikají buď finální prvky, nebo pouze předlohy (mastery), které se v další fázi galvanoplasticky kopírují a mechanicky množí.

Předností metody je možnost návrhu syntetických difrakčních struktur, zejména mimo oblast viditelného světla (ultrafialové nebo rentgenové záření), vysoká rozlišovací schopnost metody (velikost optické stopy je v desítkách až stovkách nanometrů), dobrá účinnost vytvořených struktur, a možnost levnějšího duplikování.

Nevýhodou metody je vysoká pracnost a zdlouhavost, zejména pro složitější tvary reliéfů, vysoká cena (jedná se o vysoce nákladné zařízení), a rozměrová omezenost prvků.

Zpět: Optická litografie O úroveň výše: Technologie přípravy difrakčních struktur Pokračovat: Laserové odprašování (ablace)